多孔g-C_(3)N_(4)基光催化材料的制备及应用研究进展

摘要

多孔g-C_(3)N_(4)基光催化材料由于具有较高的比表面积、丰富的反应活性位点和较短的电子传递路径等特点,能较好地解决块体g-C_(3)N_(4)基材料存在的比表面积小、光生载流子复合快及可见光利用效率低等问题,因而具有广阔的发展前景和应用潜力。本文主要从以下方面进行综述:多孔g-C_(3)N_(4)基光催化材料常用的制备方法,包括硬模板法、软模板法、水热合成法、热聚合法、超分子自组装法;多孔g-C_(3)N_(4)基材料在光催化领域的应用,包括光解水制氢、光催化降解有机污染物、光催化去除氮氧化物和光催化还原CO_(2)等;最后指出了当前影响多孔g-C_(3)N_(4)基光催化材料发展的关键问题,并对其在光催化领域的应用前景进行了展望。