光刻设备中光学系统的温压控制研究

摘要

阐述光刻设备中光学系统的温压控制,它融合了先进温度与压力控制算法、小型流体管路冷却与稳流技术等多项先进技术,能够为系统内的光学组件提供温度精度优于±0.02°C,压力控制精度优于±3Pa的受控洁净气体,是解决光刻设备中光学系统相关性能的关键。