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基阵近场的幅度束控方法

         

摘要

本文研究了近场图案的幅度束控方法,它原则上适用于任意基阵。本方法不但能使某一平面上任一区域(这一区域受菲涅耳区条件限制)的旁瓣抑制到指定水平,而且可以使这一研究平面上的主瓣宽度达到最小或接近最小。本方法可以改变旁瓣和零点位置,改变各旁瓣的相对高度。本文对等距线阵的近场束控进行了数值计算,提高了横向和纵向分辨率。

著录项

  • 来源
    《电子学报》 |1988年第3期|29-34|共6页
  • 作者

    刘勗;

  • 作者单位

    成都科学技术大学;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
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