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【24h】

Structure and electronic properties of cesiated carbon films on Si(100) using negative carbon ion beam.

机译:使用负碳离子束在Si(100)上铯化碳膜的结构和电子性能。

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摘要

The initial growth of carbon film on Si (100) substrates have been investigated by low energy electron diffraction (LEED) and Auger electron spectroscopy (AES). In the initial stages, energetic carbon ions lead to a phase transformation from two domain p(2 x 1) to (1 x 1) LEED structure pattern after about ;The surface electronic properties of cesiated carbon films on Si (100) have also been investigated for co-deposition of neutral Cs and C
机译:通过低能电子衍射(LEED)和俄歇电子能谱(AES)研究了Si(100)衬底上碳膜的初始生长。在初始阶段,高能碳离子导致大约两个时间后从两个畴p(2 x 1)到(1 x 1)LEED结构图案的相变;硅(100)上的铯碳膜的表面电子特性也得到了研究中性Cs和C的共沉积

著录项

  • 作者

    Ko, Young-Wook.;

  • 作者单位

    Stevens Institute of Technology.;

  • 授予单位 Stevens Institute of Technology.;
  • 学科 Engineering Electronics and Electrical.;Engineering Materials Science.;Physics Condensed Matter.
  • 学位 Ph.D.
  • 年度 1997
  • 页码 75 p.
  • 总页数 75
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

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