首页> 中文学位 >单晶碳化硅薄膜制备及二氧化硅基复合体系的光致发光研究
【6h】

单晶碳化硅薄膜制备及二氧化硅基复合体系的光致发光研究

代理获取

目录

文摘

英文文摘

第一章SiC材料综述

1.1 SiC材料的结构特征

1.2 SiC材料制备

1.2.1体单晶生长

1.2.2薄膜生长

1.2.3外延膜质量表征

1.2.4纳米SiC

1.3 SiC器件研究

参考文献

第二章PS/SiO2叠层反应法制备无空洞缺陷的SiC薄膜

2.1样品制备

2.2样品表征

2.3结果与分析

2.3.1真空热处理样品

2.3.2 Ar气中热处理样品

2.3.3制备条件对薄膜及界面的影响

小结

参考文献

第三章空洞缺陷形成及抑制机理

3.1空洞缺陷形成机理

3.2抑制空洞缺陷形成的一些方法

小结

附录

参考文献

第四章PLD-SiC薄膜高温退火的热化学过程

4.1样品制备

4.2样品表征与分析

4.2.1 FTIR分析

4.2.2 XPS分析

小结

参考文献

第五章二氧化硅基发光材料综述

5.1 SiO2中的常见缺陷及其光跃迁[45]

5.2 SiO2凝胶简介

5.3多孔SiO2复合材料

参考文献

第六章掺杂非晶SiO2中的缺陷发光

6.1实验

6.2 PL分析

6.3 PL峰归属

6.4缺氧型缺陷形成机制

小结

参考文献

第七章多孔SiO2中纳米AgI的室温光致发光

7.1样品制备

7.2样品表征

7.3结果与分析

7.3.1 AgISiO2薄膜(样品C)

7.3.2 AgI-SiO2粉末(样品P)

7.3.3 AgI-SiO2玻璃体(样品G)

小结

参考文献

第八章多孔SiO2-ZnO复合体系的光致发光

8.1样品制备

8.2样品表征

8.3结果与分析

8.4发光峰归属讨论

小结

参考文献

第九章结论

致谢

博士期间发表论文目录

展开▼

摘要

该论文的内容可分为两大部分:其一是宽带隙半导体材料SiC薄膜的生长;其二是以多孔SiO<,2>为基体的掺杂/复合材料的光致发光.在SiC薄膜生长方面,为获得优质单晶薄膜必须解决许多方面的问题.该文分别就SiC/Si界面空洞缺陷的消除和SiC薄膜生长的热化学过程进行了研究:SiO<,2>基复合材料的光致发光在光电器件方面具有非常广泛的应用.该文分别就掺杂SiO<,2>中的本征缺陷发光和纳米AgI-SiO<,2>、ZnO-SiO<,2>等复合体系发光方面进行了研究.

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
代理获取

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号