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中国科学技术大学学位论文相关声明
第1章绪论
1.1微机电系统
1.2 LIGA技术
1.3准LIGA技术
1.3.1 UV-LIGA(UItraviolet-LIGA)技术
1.3.2 DEM技术
1.3.3 Laser-LIGA技术
1.4课题背景与研究意义
1.5光刻仿真研究现状
1.5.1 DILL模型
1.5.2 MACK显影模型
1.5.3有限时域差分法
1.5.4基于标量波菲涅尔衍射方法
1.5.5光刻仿真软件
1.5.6当前光刻仿真中存在的问题
1.6本论文的主要工作
参考文献
第2章基于部分相干光理论的光刻模型
2.1光刻中光传播理论基础
2.1.1光的标量衍射理论
2.1.2部分相干光理论
2.2利用霍普金斯公式以及互强度的定义求掩模平面的互强度
2.2.1接近式光刻的照明系统
2.2.2掩模平面上任一点对复相干度的计算
2.2.3掩模平面光场相干度的计算结果
2.3利用范西特-泽尼克定理以及互强度传播定理求掩模平面的互强度
2.3.2蝇眼透镜入射平面上任两点的互强度
2.3.3掩模平面上任一点对的复相干度
2.3.4掩模平面光场相干度的计算结果
2.4光刻胶平面的光强分布
2.5两个模型结果的比较
参考文献
第3章表面光强分布规律及影响因素
3.1光刻胶上某一点的光强的变化规律
3.2线条图形的光强分布规律
3.3方孔图形的光强分布及其边角轮廓
3.4影响光强分布的因素
3.4.1掩模到光刻胶之间的间隙的影响
3.4.2掩模畸变的影响
3.4.3相邻图形之间的影响
3.4.4图形内、外角处光强分布的的差异
参考文献
第4章部分相干光理论模型的改进
4.1掩模平面上光场相干性的近似
4.2改进的计算模型
参考文献
第5章接近式深度光刻的仿真
5.1光在吸收介质中的传播
5.2光吸收的朗伯定律
5.3基于部分相干光理论的深度光刻模型
5.3.1光经空气间隙到达光刻胶平面
5.3.2光经光刻胶内部传播到达衬底平面
5.3.3光在光刻胶内部传播时能量损失和和相位变化的考虑
5.4线条图形的深度光刻模拟
5.5微柱图形的深度光刻模拟
参考文献
第6章基于web的协同MEMS CAD系统及其单元模块
6.1系统框架
6.2设计平台
6.3光刻仿真
6.3.1利用光刻仿真数据进行微结构实体建模
6.3.2光刻误差仿真
6.4设计优化
参考文献
第7章论文总结
7.1论文的主要工作和结论
7.2论文的主要特色及创新点
7.3进一步研究的工作展望
攻读博士学位期间发表的论文
致谢