声明
摘要
第一章 绪论
1.1 光刻技术简介
1.1.1 接触/接近式光刻
1.1.2 投影式光刻
1.1.3 粒子束刻蚀
1.1.4 激光干涉光刻
1.2 表面等离子体激元(Surface Plasmon Polariton,SPP)简介
1.2.1 表面等离子体激元的基本性质
1.2.2 局域表面等离子体激元的基本性质
1.3 拉曼散射简介
1.4 表面增强拉曼散射(SERS)简介
1.5 本文的主要研究内容
参考文献
第二章 利用干涉光刻制备微纳结构
2.1 干涉光刻原理
2.2 利用脉冲光双光束干涉制备光栅
2.2.1 AR-N7520/4负性光刻胶曝光工艺流程
2.2.2 光刻光路
2.2.3 脉冲光刻写光栅结果
2.2.4 金属光栅的制备
2.3 数字微镜设备(DMD)与六棱镜结合进行点阵结构的刻写
2.3.1 DMD与棱镜干涉光刻的原理简介
2.3.2 利用棱镜进行多光束干涉的强度计算
2.3.3 DMD与棱镜结合光刻实验过程
2.3.4 多光束干涉强度分布的模拟结果
2.4 数字微镜设备(DMD)无掩膜投影光刻
2.4.1 DMD无掩膜投影光刻光路搭建
2.3.2 DMD无掩膜光刻实例
2.5 本章小结
参考文献
第三章 金属尖端角度大小对SERS影响的研究
3.1 表面拉曼散射增强(SERS)的基本原理
3.1.1 SERS物理增强机制
3.1.2 SERS增强因子的计算
3.2 金属尖端角度大小对SERS影响的研究
3.2.1 角度不同金属尖端的制备
3.2.2 不同角度结构SERS谱的测量
3.2.3 利用FDTD模拟不同角度结构SERS谱
3.4 本章小结
参考文献
第四章 论文总结与展望
4.1 主要研究工作
4.2 展望
攻读硕士学位期间发表的工作
论文说明
致谢