基于正交试验研究不同模式下电参数对AM60B微弧氧化膜的影响

目录

声明

第1章 绪论

1.1 引言

1.2 镁及镁合金表面处理技术

1.3微弧氧化技术

1.3.1 微弧氧化概述及工艺特点

1.3.2 微弧氧化的机理

1.4 影响微弧氧化工艺的主要因素

1.4.1 电源模式及电压对微弧氧化膜的影响

1.4.2 频率对微弧氧化膜的影响

1.4.3 占空比对膜层的影响

1.5微弧氧化技术目前存在的主要问题

1.6课题的研究目的、研究内容及创新点

1.6.1 课题研究目的

1.6.2 课题研究主要内容

1.6.3课题的创新性

第2章 实验条件与方法

2.1 实验材料、实验设备及研究方法

2.1.1材料选取与制备

2.1.2 实验设备

2.2 实验方案

2.2.2 等效0∶0模式的实验方案

2.3 检测与表征方法

2.3.1 微弧氧化膜层厚度的检测

2.3.2 微弧氧化膜层耐蚀性的检测

2.3.3 微弧氧化膜层物相检测与微观形貌的表征

2.4 技术路线

第3章 0:0模式下频率、占空比及交互作用对镁合金微弧氧化膜层性能的影响

3.1频率与占空比对微弧氧化膜可行性与成膜性的影响

3.2极差分析与方差分析

3.2.1 极差分析结果

3.2.2 方差分析结果

3.3 微弧氧化膜层的微观形貌

3.3.1 膜层的表面微观形貌

3.3.2 膜层的截面微观形貌

3.4 微弧氧化膜层的相组成

3.5 电参数对微弧氧化膜层耐蚀性的影响

3.5.1点滴耐蚀性分析

3.5.2电化学耐蚀性分析

3.6 本章小结

第4章 0∶0等效模式下频率、占空比及交互作用对镁合金微弧氧化膜层性能的影响

4.1 频率与占空比对 AM60B 镁合金微弧氧化膜可行性与成膜性的影响

4.2极差与方差分析

4.2.1 极差分析结果

4.2.2 方差分析结果

4.3 微弧氧化膜层的微观形貌

4.3.1 膜层的表面微观形貌

4.3.2 膜层的截面微观形貌

4.4 微弧氧化膜层的相组成

4.5 电参数对微弧氧化膜层耐蚀性的影响

4.5.1点滴耐蚀性分析

4.5.2电化学耐蚀性分析

4.6 本章小结

第5章 1∶1模式下频率、占空比及交互作用对镁合金微弧氧化膜层性能的影响

5.1 频率与占空比对 AM60B 镁合金微弧氧化膜可行性与成膜性的影响

5.2极差与方差分析

5.2.1 极差分析结果

5.2.2 方差分析结果

5.3 微弧氧化膜层的微观形貌

5.3.1 膜层的表面微观形貌

5.3.2 膜层的截面微观形貌

5.4 微弧氧化膜层的相组成

5.5 电参数对微弧氧化膜层耐蚀性的影响

5.5.1点滴耐蚀性分析

5.5.2电化学耐蚀性分析

5.6 本章小结

第6章 不同电源模式在相同燃、熄弧时间下对镁合金微弧氧化膜性能影响的对比研究

6.1 膜层厚度对比分析

6.2 膜层微观形貌对比分析

6.3膜层耐蚀性对比分析

6.3.1 膜层点滴耐蚀性对比分析

6.3.2 膜层电化学耐蚀性对比分析

6.4 两种电源模式能耗对比

6.5 本章小结

结论

参考文献

致谢

附录A 攻读学位期间所发表的学术论文目录