摘要
第一章 绪论
1.1 概述
1.2 难降解废水概述
1.2.1 印染废水
1.2.2 含Cr(Ⅵ)废水
1.3 光催化技术概述
1.3.1 光催化技术
1.3.2 光催化与电催化技术的结合
1.4 可见光响应催化材料的研究现状
1.4.1 钛系催化材料的改性
1.4.2 卤化银的研究觋献
1.4.3 其他可见光响应型光催化材料
1.5 论文研究目的、意义及内容
1.5.1 研究目的及意义
1.5.2 研究内容
第二章 AgI/Am-TiO2-O光催化剂的制备、表征
2.1 引言
2.2 实验部分
2.2.1 实验试剂与仪器
2.2.2 光催化剂的制备
2.2.3 光催化剂的表征
2.2.4 光电化学性能研究
2.3 光催化薄膜的表征结果
2.3.1 XRD分析结果
2.3.2 TEM分析结果
2.3.3 XPS分析结果
2.3.4 UV-Vis DRS分析结果
2.4 光电化学性能研究
2.4.1 时间-电流曲线分析结果
2.4.2 交流阻抗谱分析结果
2.4.3 Mott-Schottky曲线分析结果
2.5 本章小结
第三章 AgI/Am-TiO2-O光催化性能研究
3.1 引言
3.2 实验部分
3.2.1 实验试剂与仪器
3.2.2 实验方法与分析方法
3.3 AgI/Am-TiO2-O光催化Org Ⅱ、RhB性能
3.3.1 AgI/Am-TiO2-X的催化性能比较
3.3.2 pH值、催化剂的量、光照强度对AgI/Am-TiO2-10催化性能的影响
3.3.3 AgI/TiO2摩尔比=10%的不同AgI/TiO2催化剂的性能比较
3.3.4 AgI/TiO2摩尔比=10%的不同Agl/TiO2光催化RhB性能
3.3.5 AgI/Am-TiO2-O的稳定性
3.3.6 AgI/Am-TiO2光催化机理讨论
3.4 AgI/Am-TiO2-O协同降解性能
3.4.1 协同降解RhB/Cr(Ⅵ)性能
3.4.2 pH值对协同降解RhB/Cr(Ⅵ)的影响
3.5 本章小结
第四章 Ta/A1-Fe2O3光催化薄膜的制备、表征
4.1 引言
4.2 实验部分
4.2.1 实验试剂与仪器
4.2.2 光催化薄膜的制备
4.2.3 光催化薄膜的表征
4.2.4 光电化学性能研究
4.3 光催化薄膜的表征结果
4.3.1 XRD分析结果
4.3.2 XPS分析结果
4.3.3 UV-Vis分析结果
4.3.4 SEM与HRTEM分析结果
4.4 光电化学性能研究
4.4.1 线性扫描伏安曲线分析结果
4.4.2 IPCE分析结果
4.4.3 交流阻抗谱分析结果
4.4.4 Mott-Schottky曲线分析结果
4.4.5 稳定性分析结果
4.4.6 机理研究
4.5 本章小结
第五章 Ta/A1-Fe2O3光电催化降解MB研究
5.1 引言
5.2 实验部分
5.2.1 实验试剂与仪器
5.2.2 实验方法与分析方法
5.3 Ta/A1-Fe2O3光电催化降解MB性能
5.4 Ta/A1-Fe2O3光电催化降解MB的因素研究
5.4.1 溶液pH值对催化性能的影响
5.4.2 外加偏压对催化性能的影响
5.5 Ta/A1-Fe2O3光催化薄膜的稳定性
5.6 Ta/A1-Fe2O3光电催化氧化降解MB机理讨论
5.7 本章小结
第六章 结论与展望
6.1 结论
6.2 创新点
6.3 展望
参考文献
攻读硕士学位期间发表和交流的论文及其它成果
致谢
声明