可录光盘存储介质的合成及其耐光性研究

摘要

以存储密度高、存储寿命长为特点的光盘存储技术是信息科技的重要组成部分，存储介质一直是光存储技术中的关键问题。与无机材料相比，有机介质材料具有灵敏度高、容易加工和便于调整结构性能等特点。当前广泛使用的有机光存储介质包括菁染料、酞菁染料、偶氮染料等。由于菁染料与其他染料相比具有较好的溶解性能、易于制备、成本更低等优点，在光盘存储方面具有很大的研究和应用潜能，因此引起了人们的高度重视。 本论文简要介绍了可录光盘染料的基本概念，主要包括其记录机理、基本类型和其配制、涂布、洗边等主要工艺。 本论文的研究工作主要分为以下几个部分： 1.合成了四种光盘用菁染料 (1)3，3，3’，3’-四甲基-1，1’-二正丁基吲哚三碳菁高氯酸盐(2)3，3，3’，3’-四甲基-1，1’-二正丁基苯并吲哚三碳菁高氯酸盐(3)3，3，3’，3’-四甲基-1，1’-二正丁基吲哚二碳菁高氯酸盐(4)3，3，3’，3’-四甲基-1，1’-二正丁基苯并吲哚二碳菁高氯酸盐2.合成了两种单线态氧猝灭剂 (1)3，4-二巯基-吗啉苯磺酸镍络合物季铵盐(2)N，N-二乙基-3，4-二巯基苯磺酰胺镍络合物季铵盐3.合成了两种配对离子化合物 (1)吗啉配对离子化合物(2)二乙胺配对离子化合物4.采用红外光谱和核磁共振谱对上述合成产物进行结构表征，结果表明与理论结构相符；采用紫外分光光度计测定了所合成菁染料的吸收光谱；在碘—钨灯照射条件下对产物进行耐光性测试，结果表明上述两种单线态氧猝灭剂能够显著提高菁染料的耐光性。

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第一章绪论

1.1光信息存储技术

1.2光信息存储系统

1.3可录式光盘(CD-R)

1.4光盘用染料

1.5光盘用猝灭剂

第二章可录光盘存储介质的设计

2.13，3，3'，3'-四甲基-1，1'-二正丁基吲哚二(三)碳菁高氯酸盐的设计

2.23，3，3'，3'-四甲基-1，1'-二正丁基苯并吲哚二(三)碳菁高氯酸盐的设计

2.3单线态氧猝灭剂的设计

2.4配对离子化合物的设计

第三章可录光盘存储介质的合成

3.1七甲川菁染料的合成

3.2五甲川菁染料的合成

3.3单线态氧猝灭剂的合成

3.4配对离子化合物的合成

第四章结果与讨论

4.1菁染料的结构表征

4.2单线态氧猝灭剂的结构表征

4.3配对离子化合物的结构表征

4.4吸收光谱分析

4.5耐光性测定

第五章结论

参考文献

致谢

新型功能染料1，1’-二正丁基-3，3，3’，3’-四甲基吲哚三碳菁高氯酸盐的合成及表征