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第一章 绪论
1.1抗菌材料
1.1.1抗菌有关概念
1.1.2抗菌材料的发展
1.1.3抗菌剂的分类及特点
1.1.4抗菌材料抗菌性评价方法
1.2TiO2光催化抗菌材料
1.2.1TiO2光催化抗菌材料的特点
1.2.2影响纳米TiO2抗菌性的因素
1.2.3纳米TiO2抗菌材料的发展应用现状
1.3 TiO2光催化抗菌机理
1.4提高TiO2光催化活性的途径
1.4.1阳离子掺杂改性
1.4.2阴离子掺杂改性
1.4.3半导体复合
1.4.4表面光敏化
1.5课题提出
1.6本章小结
第二章 光催化剂的制备及其微观结构表征
2.1实验设计
2.1.1光催化剂的制备
2.1.2化学沉淀法制备TiO2-xNx粉体光催化剂及其掺杂改性
2.1.3 ABO3钙钛矿型光催化剂的制备
2.2结构与性能表征
2.2.1 XRD分析
2.2.2 TEM分析
2.2.3 UV-vis分析
2.2.4 XPS分析
2.3光催化剂的活性测试
2.3.1抗菌性测定
2.3.2 TiO2光催化降解甲基橙实验
2.3.3 ABO3钙钛矿型氧化物光催化降解酸性红3B实验
2.4实验原料
第三章 Sol-gel法制备M/TiO2粉体的可见光活性
3.1光催化剂的表征
3.1.1TEM表征
3.1.2 XPS表征
3.1.3 XRD表征
3.1.4 UV-vis吸收光谱表征
3.2 Ag/TiO2粉体可见光活性分析
3.2.1 Ag/TiO2粉体的抗菌活性
3.2.2 Ag/TiO2粉体降解甲基橙的活性
3.3 V/TiO2粉体的可见光活性分析
3.3.1 V/TiO2粉体的抗菌活性
3.3.2 V/TiO2粉体降解甲基橙的活性
3.4 La/TiO2粉体的可见光活性分析
3.4.1 La/TiO2粉体的抗菌活性
3.4.2 La/TiO2粉体降解甲基橙的活性
3.5本章小结
第四章 双掺杂粉体光催化剂的可见光活性
4.1化学沉淀法制备TiO2-xNx粉体
4.2过渡金属离子掺杂TiO2-xNx的光催化活性
4.2.1 Fe/TiO2-xNx粉体的可见光活性分析
4.2.2 Cu/TiO2-xNx粉体的可见光活性分析
4.2.3 Ag/TiO2-xNx粉体的可见光活性分析
4.3本章小结
第五章 TiO2薄膜的抗菌活性和降解甲基橙溶液的活性
5.1TiO2薄膜制备工艺的选择
5.1.1拉膜次数对薄膜光催化性能的影响
5.1.2热处理温度对薄膜光催化性能的影响
5.2TiO2薄膜的抗菌活性分析
5.2.1光催化薄膜抗菌性评价方法研究
5.2.2 La掺杂对TiO2薄膜抗菌性的影响
5.2.3 Ce掺杂对TiO2薄膜抗菌活性的影响
5.3TiO2薄膜降解甲基橙活性分析
5.3.1 La掺杂对TiO2薄膜降解甲基橙活性的影响
5.3.2 Ce掺杂对TiO2薄膜降解甲基橙活性的影响
5.4本章小结
第六章 AB03钙钛矿型氧化物的光催化及抗菌性能研究
6.1纳米LaCoO3的表征
6.2 LaCoO3的粒径对光催化及抗菌性能的影响
6.3掺杂对LaCoO3的光催化及抗菌性能的影响
6.4 B位离子对LaBO3的光催化及抗菌性能的影响
6.5本章小结
第七章 结论
参考文献
创新性
发表论文和参加科研情况说明
致谢