声明
第一章文献综述
1.1 半导体光催化技术
1.1.1 光催化机理
1.1.2光催化材料发展历程
1.2氮化碳材料研究进展
1.2.1 氮化碳材料发展历程
1.2.2 氮化碳材料的基本性质
1.3氮化碳材料改性研究
1.3.1形貌调控
1.3.2 与其它材料复合
1.4本论文选题意义及主要工作
第二章实验部分
2.1.1试剂
2.1.2仪器
2.2表征方法
2.2.1透射电子显微镜
2.2.2扫描电子显微镜
2.2.3 X射线衍射
2.2.4傅里叶变换红外光谱
2.2.5 X射线光电子能谱
2.2.6氮气吸附-脱附分析仪
2.2.7固体紫外-可见漫反射光谱
2.2.8紫外-可见光吸收光谱
2.2.9光致发光荧光光谱
2.3性能评价
2.3.1实验装置
2.3.2实验步骤
第三章一步热解法制备多孔g-C3N4纳米材料及其可见光催化性能研究
3.1引言
3.2实验部分
3.2.1 MACN的制备
3.2.2光催化性能的评价
3.3结果与讨论
3.3.1结构与形貌
3.3.2光学性质
3.3.3可见光催化性能
3.4小结
第四章六棱柱状多孔g-C3N4材料的制备及其可见光催化性能研究
4.1引言
4.2实验部分
4.2.1 HACN的制备
4.2.2光催化性能的评价
4.3结果与讨论
4.3.1结构与形貌
4.3.2光学性质
4.3.3可见光催化性能
4.4小结
第五章g-C3N4/MWCNTs 纳米复合材料制备及其可见光催化性能研究
5.1引言
5.2实验部分
5.2.1制备g-C3N4/MWCNTs纳米复合光催化剂
5.2.2光催化活性的评价
5.3结果与讨论
5.3.1结构与形貌
5.3.2光学性质
5.3.3可见光催化性能
5.4小结
第六章结论与展望
6.1结论
6.2创新点
6.3展望
参考文献
发表论文和参加科研情况说明
致谢
天津大学;