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独创性声明及关于学位论文使用授权的声明
第一章绪论
1.1多层薄膜概况
1.1.1多层薄膜的超晶格结构
1.1.2多层薄膜的性能
1.2软x射线多层薄膜研究概况
1.2.1软x射线多层薄膜研究进展
1.2.2软x射线多层膜研究关键技术
1.2.3软x射线多层膜的应用
1.3磁光记录多层薄膜研究概况
1.3.1磁光记录技术特点
1.3.2磁光记录原理
1.3.3磁光多层膜结构
1.3.4磁光记录器件及应用
1.4问题的提出及论文主要思路
第二章多层薄膜实验系统
2.1溅射靶材
2.1.1金属多层薄膜靶材
2.1.2磁光多层薄膜靶材
2.2多层薄膜溅射方法
2.2.1引言
2.2.2金属多层薄膜溅射系统
2.2.3磁光多层薄膜溅射系统
2.3多层膜软x射线反射率测试方法
2.3.1多层膜软x射线反射率
2.3.2同步辐射软x光反射率测试方法
2.3紫外光反射率测试
2.4磁光特性测试方法
2.5多层薄膜结构分析方法
2.5.1小角X射线分析方法
2.5.2 TEM结构分析
2.5.3 AFM表面形貌分析
2.5.4可靠性测试
2.5.5薄膜厚度与光学性能测试
第三章光学多层薄膜制备
3.1金属多层薄膜制备
3.1.1金属多层膜设计方法
3.1.2薄膜溅射速率测定与控制
3.1.3金属多层薄膜膜层厚度控制
3.2 Ti/Cu、Nb/Cu、Mo/Si金属多层薄膜制备
3.2.1溅射工艺参数确定
3.2.2金属多层薄膜制备
3.4磁光多层薄膜制备方法
3.4.1磁光记录薄膜制备方法
3.4.2磁光介质薄膜制备方法
3.4.3磁光反射层薄膜制备方法
3.5本章小结
第四章金属多层薄膜结构与性能研究
4.1 Ti/Cu金属多层薄膜结构分析
4.1.1 Ti/Cu金属多层薄膜层状结构分析
4.1.2 Ti/Cu金属多层膜X射线衍射分析
4.1.3 Ti/Cu金属多层薄膜小角X射线分析
4.1.4 Ti/Cu金属多层薄膜表面粗糙度分析
4.2 Nb/Cu金属多层薄膜结构分析
4.2.1 Nb/Cu金属多层薄膜的X射线结构分析
4.2.2 Nb/Cu金属多层薄膜表面与界面分析
4.3金属多层薄膜的光学反射特性研究
4.3.1 Mo/Si金属多层膜软x射线反射率
4.3.2 Ti/Cu超晶格多层膜软x射线和紫外线反射率
4.4金属多层薄膜透射电镜结构分析
4.5本章小结
第五章磁光多层薄膜结构与性能
5.1磁光多层薄膜膜层特性及磁光性能
5.1.1磁光记录层制备及磁光性能
5.1.2光学介质层制备及性能
5.1.3光学反射层制备工艺
5.2磁光多层薄膜结构与磁光性能关系研究
5.2.1磁光多层薄膜膜层结构
5.2.2磁光多层膜膜层匹配与磁光性能关系
5.3本章小结
第六章磁光多层薄膜器件及应用
6.1磁光多层薄膜器件
6.2磁光盘性能指标
6.3磁光盘可靠性分析
6.3.1单层结构磁光薄膜可靠性
6.3.2磁光多层薄膜可靠性
6.3.3磁光盘可靠性研究
6.3.4磁光盘疲劳特性研究
6.3.5磁光盘信息保持特性
6.4本章小结
结论
参考文献
致谢
博士期间已发表和待发表论文