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王放;
电子科技大学;
低能; 氩离子注入; 非晶; 氧化物工艺; 模拟;
机译:工艺中加入H_2气体和H离子注入对双极型等离子体离子注入制备的氢化非晶碳膜微观结构的影响
机译:VHF PECVD工艺中氩稀释对非晶到超纳米晶硅膜生长的影响
机译:低能氦离子注入表面硅层的非晶化研究
机译:低能He离子注入诱导非晶Si中的有序氦气泡和纳米微晶
机译:用于增强离子注入薄膜和非晶混合氧化物薄膜晶体管性能的新型低温工艺。
机译:Sol-Gel工艺获得的无光阻的完全自图案化透明非晶氧化物薄膜晶体管
机译:低能量硅绝缘体离子注入光栅,用于光学晶圆尺寸测试
机译:离子注入诱导陶瓷氧化物的非晶化。
机译:复合氧化物烧结体,非晶复合氧化物膜的制造方法,非晶复合氧化物膜和结晶复合氧化物膜的制造方法及结晶复合氧化物膜
机译:非晶复合氧化物膜,结晶复合氧化物膜,非晶复合氧化物膜的制造方法,结晶复合氧化物膜的制造方法以及复合氧化物烧结体
机译:非晶复合氧化物膜,结晶复合氧化物膜,非晶复合氧化物膜的制造方法以及结晶复合氧化物膜的制造方法
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