声明
第一章 绪 论
1.1 微波真空电子器件介绍
1.2.1 EIO及EIK
1.2.2 多注速调管
1.3 多注电子光学系统
1.4 本文的主要贡献与创新
1.5 本论文的结构安排
第二章 电子光学系统基本理论概述
2.1.1 皮尔斯电子枪的构造与电子注的产生
2.1.2 电子枪的主要参数
2.2 聚焦磁场
2.3 空间电荷波的基本理论
2.4 有限磁场聚焦电子注中的空间电荷波
2.5 本章小结
第三章 离轴多注电子光学系统特性分析
3.1 多注电子光学系统的实现方法
3.2 聚焦方式
3.3 离轴磁场特性分析
3.3.1 电子枪离轴距离Y的影响
3.2.2 铁磁屏蔽外壳厚度d的影响
3.3 本章小结
第四章 电子光学系统设计
4.1 Ka波段EIO的多注电子光学系统的设计
4.2 多注电子枪电子注轨迹的仿真
4.3 后续工作
4.5 本章小结
第五章 总结
致谢
参考文献
攻读硕士学位期间取得的成果