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第1章绪论
1.1选题意义
1.2等离子体基离子注入的发展现状以及存在的问题
1.2.1等离子体基离子注入技术的研究现状
1.2.2等离子体基离子注入技术的局限性
1.3 PBII的基本物理过程
1.3.1在电场下等离子体鞘层的形成及Bohm判据
1.3.2空间电荷限制发射定律
1.3.3等离子体基离子注入基本物理过程及鞘层扩展
1.4等离子体基离子注入鞘层扩展模型的研究概况
1.4.1准静态鞘层模型
1.4.2流体动力学模型
1.4.3等离子体粒子模拟
1.5保形性等离子体基离子注入的提出
1.6本文的主要研究内容
第2章PBII鞘层扩展及改性层成分分布的模拟
2.1引言
2.2等离子体粒子模型的建立
2.2.1模型假设
2.2.2方程形式
2.2.3边界条件及初始条件
2.2.4求解过程
2.3模拟的试验条件
2.3.1靶形状和尺寸的选择
2.3.2脉冲波形的选择
2.4 PBII注入元素浓深分布的模拟
2.4.1入射离子能量分布的获得
2.4.2 TRIM程序的利用
2.4.3影响离子分布的主要因素
2.4.4模拟浓深曲线的合成
2.5本章小结
第3章靶形状及注入参数对鞘层扩展特性的影响
3.1引言
3.2鞘层结构及其随时间的演化
3.2.1靶尺寸对鞘层结构及其扩展的影响
3.2.2靶形状对鞘层结构的影响
3.2.3脉冲波形对鞘层结构的影响
3.2.4鞘层的演化趋势
3.3鞘层的扩展速度
3.3.1靶尺寸对鞘层扩展速度的影响
3.3.2靶形状对鞘层扩展速度的影响
3.3.3脉冲波形对鞘层扩展速度的影响
3.4等离子体密度分布
3.4.1等离子体密度脉冲的形成及演化
3.4.2靶尺寸对等离子体密度的影响
3.4.3靶形状对等离子体密度的影响
3.4.4脉冲波形对等离子体密度的影响
3.5本章小结
第4章靶形状及注入参数对离子入射特性的影响
4.1引言
4.2离子入射能量及其演化
4.2.1靶尺寸对离子入射能量的影响
4.2.2靶形状对离子入射能量的影响
4.2.3脉冲波形对离子入射能量的影响
4.3离子入射角及其演化
4.3.1靶尺寸对离子入射角的影响
4.3.2靶形状对离子入射角的影响
4.3.3脉冲波形对离子入射角的影响
4.4离子入射流的变化规律
4.4.1靶尺寸对离子入射流的影响
4.4.2靶形状对离子入射流的影响
4.4.3脉冲波形对离子入射流的影响
4.5离子注入剂量的变化规律
4.5.1靶尺寸对注入剂量的影响
4.5.2靶形状对注入剂量的影响
4.5.3脉冲波形对注入剂量的影响
4.6本章小结
第5章注入剂量及其分布的影响因素分析
5.1引言
5.2试样参数的选择
5.3离子种类对注入剂量及其分布的影响
5.4 PBII工艺参数对注入结果的影响
5.4.1脉冲电压
5.4.2脉宽
5.4.3脉冲波形
5.4.4等离子体密度
5.5工件形状对注入剂量及其分布的影响
5.6本章小结
第6章改性层成分分布特性及其影响因素
6.1引言
6.2入射离子种类对改性层成分分布的影响
6.3 PBII工艺参数对改性层成分分布的影响
6.3.1电压
6.3.2脉宽
6.3.3脉冲波形
6.3.4等离子体密度
6.4工件形状对改性层成分分布的影响
6.5本章小结
结论
参考文献
博士后研究期间发表的论文及承担的科研项目
致谢
复旦大学;