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绪论
第一章第一性原理研究半导体流体静力学的绝对形变势
第二章第一性原理Ⅱ-Ⅳ,Ⅲ-Ⅴ和Ⅱ-Ⅵ族半导体的绝对形变势及其化学趋势分析
第三章第一性原理研究Ⅱ-Ⅵ,Ⅲ-Ⅴ和Ⅳ族化合物半导体在平衡体积下的能带偏移:化学趋势和阳离子d轨道所起的作用
参考文献
后记
博士生期间发表的学术论文
博士后期间发表的文章
李拥华;
复旦大学;
形变势; 能带偏移; 半导体;
机译:IIIA-VA族半导体中由(001)双轴应变引起的能带位移的绝对形变势和鲁棒的从头算模型
机译:Ag_2ZnSnSe_4 / CdS异质结的能带偏移:实验和第一性原理研究
机译:非晶态Si3N4 / Si(100)界面的能带偏移和介电特性:第一性原理研究
机译:通过110 -Si纳米线的横截面形态进行能带控制的第一性原理研究
机译:分子固体和半导体中杂质的电子结构和性质的第一性原理研究:I.有机铁磁体中的mu和mu。二。硅光电系统中的。
机译:H端稳定的边缘可变半导体C3N纳米带的性质和太阳能电池应用:第一性原理研究
机译:表面和界面处的准粒子能量的第一性原理计算:半导体表面态光谱和带偏移
机译:半导体元件,即现代集成电路,制造方法,例如CPU,涉及在应用清洁工艺的情况下在有源区中形成嵌入的引起形变的半导体材料
机译:一种用于半导体器件和方法的半导体器件和方法,用于在硅基晶体管中通过使用注入技术在沟道区下方产生形变诱导层来产生形变
机译:应用二进制接口和将二进制应用程序连接到数字计算机的方法,包括有效获取全局偏移表(GOT)绝对基址的方法
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