摘要
Abstract
第一章 绪论
1.1 引言
1.2 飞秒激光与物质的相互作用简介
1.3 “黑硅”简介
1.3.1 高吸收特性
1.3.2 发光特性
1.3.3 光电响应特性
1.3.4 高发射率特性
1.4 本论文主要内容及安排
第二章 飞秒激光微构造硅的实验装置
2.1 系统介绍
2.2 飞秒激光系统
2.2.1 振荡级
2.2.2 放大级
2.3 微构造系统
2.3.1 真空系统
2.3.2 监视光路
2.4 样品制备流程
2.4.1 实验样品准备
2.4.2 样品微构造过程
2.5 表面微结构的控制
2.5.1 不同气体背景的影响
2.5.2 不同能量的影响
2.5.3 其它因素的影响
第三章 微构造硅的光学特性
3.1 介绍
3.2 提升的吸收率
3.2.1 测试装置
3.2.2 测量结果
3.3 高吸收机理的探讨
第四章 微构造硅的光谱发射率
4.1 介绍
4.2 实验装置
4.3 提升的法向光谱发射率
4.3.1 硅衬底的发射率
4.3.2 不同尖峰高度的微构造硅的发射率
4.3.3 不同温度下微构造硅的发射率
4.3.4 与标准黑体发射率的对比
4.4 镀金膜的微构造硅的发射率
4.4.1 镀金膜的微构造硅的发射率随温度的变化
4.4.2 镀金膜的微构造硅的发射率随峰高的变化
4.5 高发射率机理的探讨
4.5.1 微构造硅高发射率的机理
4.5.2 镀金膜微构造硅高发射率的机理
4.6 应用前景
第五章 原型器件及其光电响应
5.1 p-n结介绍
5.2 原型器件的制作
5.3 测试仪器
5.4 器件的测试仪结果
5.4.1 不加偏压时不同峰高的影响
5.4.2 不同退火温度的影响
5.4.3 0.5伏偏压下不同峰高的影响
5.5 讨论
参考文献
硕士期间发表的论文
致谢
