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碳纳米管薄膜的研究及电镜图像处理系统

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英文文摘

第一章绪论

§1.1碳纳米管技术的发展现状

§1.2薄膜材料的生产工艺

§1.3薄膜材料在场致发射方面的应用研究

§1.4扫描电镜的应用与图像处理系统的研发

§1.5论文简介

第二章金属和半导体的场至电子发射基本理论

§2.1金属中电子态的统计分布函数

§2.1.1费米一狄拉克统计分布

§2.1.2电子的动量与能量分布

§2.2表面势垒和逸出功

§2.2.1表面势垒

§2.2.2 逸出功

§2.3半导体和绝缘体中的电子

§2.3.1能带的形成

§2.3.2半导体中电子的统计分布

§2.4金属的场致发射

§2.5半导体的场致电子发射

§2.5.1外电场与吸附原子对表面势垒的影响

§2.5.2半导体的场致发射电流公式

第三章碳纳米管薄膜的电子性质

§3.1传统理论的不足

§3.2碳纳米管的电子性质

第四章碳钠米管薄膜的电镜观察和场致发射实验

§4.1实验制备碳钠米管薄膜

§4.2碳钠米管薄膜的电镜分析

§4.3碳纳米管的催化生长机理

§4.4碳钠米管薄膜的场发射实验

§4.4.1碳钠米管薄膜的场发射实验装置

§4.4.2碳钠米管薄膜的场发射实验结果

第五章扫描电镜工作原理

§5.1基本工作原理

§5.2扫描电镜的讯号及不同讯号产生的信息

§5.3影响分辨本领的主要因素

§5.4不同信号成像时的分辨本领

§5.5信号接受系统和扫描系统

第六章扫描电镜图像处理系统硬件部分的原理

§6.1基本设计原理

§6.1.1总体思路

§6.1.2模拟亮度信号ANAL的分压、平移与隔离

§6.1.3 A/D转换

§6.1.4模拟与数字部分相隔离

§6.1.5 EPP口的使用与连接

§6.1.6数据文件存储与图像再现

§6.2 TLC2543的工作原理

§6.2.1 TLC2543介绍

§6.2.2工作方式

§6.2.3地址选择

§6.2.4数据长度、MSB位置和极性控制

§6.2.5 TLC2543 A/D转换原理

§6.3 EPP口的工作原理及各路信号

§6.3.1打印口的EPP方式的工作原理

§6.3.2各路信号

第七章扫描电镜图像处理系统软件部分的原理

§7.1显示原理

§7.1.1基本思路

§7.1.2灰度图像的显示

§7.2尺度变换[放大缩小]

§7.2.1等比例二维整数倍放大

§7.2.2等比例二维整数倍缩小

§7.3平移[左右平移]

§7.4图像增强[图像增强]

§7.5图像滤波[滤波处理]

§7.5.1噪声消除法

§7.5.2邻域平均法

§7.6图像锐化[图像锐化]

§7.6.1梯度法

§7.6.2高通滤波

第八章样片的特征提取与照片分析

§8.1图像特征提取

§8.1.1重心力矩

§8.1.2几何特征

§8.1.3有关图像特征的讨论

§8.2图像纹理分析

§8.2.1灰度共生矩阵(Second-order cooccurrence matrix)

§8.2.2纹理特性

§8.3电镜照片的分析

结束语

致谢

攻读硕士期间发表的论文及科研成果

参考文献

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摘要

该文报道了一项化学气相沉淀法(CVD)生长碳钠米管薄膜的新工艺,实现了碳钠米管与衬底的良好电接触,生长出了具有良好场发射性能的碳钠米管薄膜.用扫描电镜(SEM)观察碳钠米管的微观结构,分析碳钠米管的晶格结构及分布排列,讨论了催化颗粒中极性离子对碳钠米管生长的干扰以及碳钠米管生长过程中的相互影响.并测试了其场发射特性,测试结果表明,其场发射性能优异,明显优于传统硅锥阵列发射阴极.并得到其场发射I—V特性曲线,用场发射理论进行研究,可以发现其场发射特性与Fowler-Nordhein公式基本吻合.研制了与扫描电镜配套使用的一套扫描电镜图象计算机处理系统.

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