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摘要
本文的创新点与主要贡献
1.1 引言
1.2 硼及硼的性质
1.2.1 硼的存在形式
1.2.2 硼的晶体结构及电子结构
1.2.3 硼的物理性质和化学性质
1.3 硼的主要制备方法
1.3.1 化学气相沉积法
1.3.2 激光烧蚀及磁控溅射法
1.3.3 熔体法
1.4 Cu-B合金
1.4.2 Cu-B合金中硼的存在形式
1.4.3 铜熔体中硼生长的影响因素
1.5 硼的发展前景及应用
1.5.1 半导体材料
1.5.2 中子吸收材料
1.6 本文研究内容及意义
第二章 试验材料与研究方法
2.1 引言
2.2 研究思路与技术路线
2.3 试验材料与试验过程
2.3.1 试验原料及辅助设备
2.3.2 试验用合金的制备
2.4 样品的制备
2.4.1 萃取处理
2.4.2 研磨处理
2.5 样品的分析表征
2.5.1 扫描电镜观察
2.5.2 金相组织观察
2.5.3 透射电镜观察
2.5.4 X射线衍射分析
2.5.5 拉曼光谱分析
2.5.6 X射线光电子能谱分析
2.5.7 基质辅助飞行时间质谱分析
2.6 计算机模拟
第三章 常温常压下,铜熔体中α-B和β-B的形成机制及稳定性
3.1 引言
3.2 铜硼合金体系的液态结构分析
3.3 铜硼合金中硼的成分分析及晶体结构的确定
3.4 铜熔体中硼的形成及生长机制
3.4.2 铜熔体中β-B的生长机制
3.5 硼的生长模型及其稳定性
3.6 本章小结
第四章 铜熔体中硼纳米结构的制备及其形成机制
4.2.1 硼纳米球的制备
4.2.2 硼纳米球的生长机制
4.3 硼纳米颗粒由球状到花状的生长演变机制
4.3.1 第一性原理计算
4.3.2 硼纳米颗粒的失稳转变模型
4.4 硼纳米片的制备
4.4.1 硼纳米片的形成
4.4.2 硼纳米片的化合价及化学环境分析
4.5 本章小结
第五章 结论
参考文献
致谢
附录