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第一章绪论
1.1引言
1.2多弧离子镀技术的研究概况
1.2.1多弧离子镀技术的背景
1.2.2多弧离子镀设备的发展概况
1.2.3薄膜质量影响因素的研究情况
1.3课题的来源及研究内容
1.3.1课题的来源
1.3.2研究内容及方法
第二章多弧离子镀的实践与发现
2.1设备介绍
2.2表带镀制TiN的工艺流程
2.3温度对TiN膜质量的影响
2.3.1工件温度的测量
2.3.2表带镀TiN沉积温度的确定
2.4多弧靶磁场的实验研究
2.5镀膜室气体分布对TiN膜颜色均匀性的影响
2.6本章小结
第三章镀膜过程工件温度分析
3.1引言
3.2影响工件温度因素的分析计算
3.2.1离子轰击热
3.2.2加热管辐射热
3.2.3电弧辐射热
3.2.4反应热
3.2.5工件向炉壁辐射散热
3.2.6工件架轴传导散热
3.2.7对流散热
3.3工件温度的计算
3.3.1计算公式求解
3.3.2不同参数下工件温度的模拟
3.3.3计算值与实际值的比较
3.4本章小结
第四章多弧靶磁场分析
4.1磁场对电弧的作用
4.2圆形平面靶面磁场的计算
4.2.1物理模型的建立
4.2.2基本数学模型
4.2.3有限元法离散
4.2.4磁感应强度的计算
4.2.5用Ansys软件进行磁场计算
4.3计算结果分析
4.3.1 Ti靶表面磁场分析
4.3.2Ni靶表面磁场分析
4.4本章小结
第五章镀膜室的压力场模拟
5.1引言
5.2模型的基本介绍
5.3气体流态的判断
5.4基本方程
5.5二次辉光过程镀膜室压力场的模拟
5.5.1网格的生成
5.5.2计算结果及分析
5.6本章小结
第六章结论
参考文献
致谢
附表