用发射光谱法测量氮气直流辉光放电的转动温度

摘要

由于该实验室正从事氮气直流辉光放电磁控溅射石墨靶生长CN膜的研究,作为该课题的一部分,我们的目的是利用发射光谱法测量氮气直流辉光放电中的转动温度,从而实现对靶的生长环境的控制,从中得到有意义的结论.该文报道了氮气气压分别为10Pa、20Pa时,对其直流辉光放电的发射光谱进行测量和分析的结果.选择的研究对象为N<,2>放电中形成的N<,2><'+>的B<'2>∑<,u><'+>→X<'2>∑<,g><'+>跃迁的Δv=v'-v

目录

文摘

英文文摘

1.引言

2.发射光谱概述

2.1发射光谱基本原理

2.2谱线的宽度与线形

3.分子光谱概述

3.1分子的内部运动及其波函数

3.2双原子分子的能态

3.3双原子分子的跃迁选择定则

3.4双原子分子的光谱

4.用发射光谱法测量等离子体的转动温度的原理

4.1用发射光谱法测量等离子体的转动温度的原理

4.2用发射光谱法测量N2+转动温度的原理及意义

5.直流辉光放电概述

6.实验装置及实验过程

6.1实验装置

6.2实验过程

7.实验数据的拟合

8.实验结果及讨论

8.1实验测量得到的光谱及拟和结果

8.2伏安特性曲线及放电状态研究

8.3不同气压下的温度分布

8.4放电区中转动温度随电压的变化趋势比较

9.结论

参考文献

附录

致谢