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钆镓石榴石的研磨与抛光工艺研究

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1 绪论

1.1课题背景

1.2 GGG晶体的国内外研究现状

1.3 本论文研究内容

2 GGG晶体的机械研磨工艺研究

2.1 GGG晶体研磨实验条件

2.2 GGG晶体的粗研磨实验研究

2.3 GGG晶体的精研磨工艺实验研究

2.4 本章小结

3 GGG晶体的机械抛光工艺研究

3.1 GGG晶体机械抛光实验条件

3.2 GGG晶体的机械抛光工艺研究

3.3 本章小结

4 GGG晶体的化学机械抛光研究及组合加工工艺

4.1 化学机械抛光液的优化

4.2 IC1000抛光垫的面形测量与修整

4.3 化学机械抛光的工艺实验及结果分析

4.4 本章小结

结论

参考文献

攻读硕士学位期间发表学术论文情况

致谢

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摘要

钆镓石榴石(GGG)是一种性能优良的激光晶体,被广泛应用于固体激光器中,在大功率激光二极管泵浦技术及其支撑技术取得重大突破后,固体激光器正在由中小功率向大功率快速发展的今天,GGG晶体成为大功率激光器的首选晶体。GGG晶片作为激光晶体应用于固体激光器中,需要有合适的表面质量和平面度来达到较高的激光阈值,但是目前关于GGG晶片加工工艺的研究仅仅局限在某一特定加工方法的优化,还没有一套较为完整的加工工艺方案,本文对GGG晶片的研磨和抛光的工艺条件与参数进行了研究与优化,主要研究内容如下:
  (1)研究了GGG晶片的机械研磨工艺,将机械研磨分为粗研磨和精研磨两道工序,通过改进粗研磨参数使GGG晶片在较高的加工效率下快速减薄,同时避免了碎片;通过单因素实验对精研磨的工艺参数进行优化,确定合适的研磨盘,研磨盘转速和研磨载荷,兼顾表面粗糙度和平面度。
  (2)研究了GGG晶片的机械抛光工艺,对机械抛光中使用较细粒度(W1-W2.5)磨粒以及硬质抛光盘抛光时对晶片易造成较大表面缺陷的问题,从磨粒硬度和粒度以及抛光模硬度的角度进行研究和分析,确定导致表面缺陷的根本原因在于抛光盘的硬度过高;通过轨迹计算和仿真,确定了使用偏心保持环在聚氨酯抛光垫上进行机械抛光的运动形式,并通过单因素实验优化了机械抛光的抛光转速和抛光载荷,使平面度达到140nm,表面粗糙度RMS达到21.9nm。
  (3)研究了GGG晶片的化学机械抛光工艺,对化学机械抛光液中硅溶胶的浓度和pH值进行优化,为了避免在化学机械抛光中晶片的平面度发生恶化,采用硬度较高的IC1000聚氨酯抛光垫进行抛光,确定了抛光垫粘贴基底以及抛光垫平整度的测量与拟合方案,采用金刚石修整器并选用合适的修整参数对抛光垫进行修整,在进一步提高晶片表面粗糙度的基础上,保证了抛光垫的面形,有效避免了在化学机械抛光中晶片平面度恶化。
  (4)确定了GGG晶片的组合加工工艺方案,通过该工艺可以高效地对GGG晶片进行加工,使其平面度达到276nm,表面粗糙度达到0.45nm,且对加工后晶片进行检测和分析,无明显缺陷。

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