微粒尺度分布测量方法及其理论的研究

摘要

全文共分七章.第一章为绪论,纵论了OPC的发展及国内外现状,列举了该文的主要研究工作.第二章为MIE理论基础的阐述以及在理论和OPC测量技术上的探索和研究成果.第三章为微粒在真实情况下所受扰动的成因分析和研究,为下面章节的研究奠定了理论基础.第四章全面体现了形貌概率分布函数和任意形貌粒子特征分布函数的新思想,完整创建了任意形貌粒子的形貌概率分布函数、任意形貌粒子特征分布函数的表达式及其数学反应演方程,并提出了基本的实验测定方法.第五章介绍也虚拟无限维通道的概念和理论,并提出了该理论的进一步的修正理论和实验方法.第六章系统性地介绍了Fraunhofer衍射方法并提出了对该理论近波长区间内的改进.同时论述了以Fraunhofer衍射为基础的OPC测量技术,建立了PGB三色均衡理论,提出了PSO在OPC技术中的应用方法.第七章对全文进行了总结,作出了结论,并提出了进一步的展望.

目录

文摘

英文文摘

主要符号注释

1.绪论

1.1引言

1.2微粒粒度分布测量理论与技术和回顾及现状

1.2.1微粒特征的物理和数学参数

1.2.2测量理论基础

1.2.3测量方法和技术

1.2.4尚待解决的问题

1.3本文的主要研究工作及其创新

1.4论文的结构

参考文献

2.散射理论和其主要反演方法与数学建模

2.1散射基础理论

2.2主要反演理论与其数学建模

2.2.1积分变换法

2.2.2积分方程求解法

2.2.3随机反演法

2.2.4概率统计法

2.3本章小结

参考文献

3.真实情况下微粒光散射的扰动

3.1真实光源的影响

3.2微粒形貌与空间取向的影响

3.3微粒运动的影响

3.4复折射率的非零情况

3.5 OPC的系统噪声

3.6本章小结

参考文献

4.任意形貌微粒的特征函数及其反演方法

4.1半椭圆组合模型与数学参数

4.1.1等相位散射截面与形貌

4.1.2任意形貌EPO面半椭圆组合模型的表述

4.2形貌影响因子函数T（η）和形貌分布函数P（η）

4.2.1 形貌分布函数P(η)

4.2.2形貌影响因子函数T(η）

4.3微粒粒度、形貌概率分布函数P(d,η)与其反演方程

4.4反演理论适用范围的讨论

4.5本章小结

参考文献

5.虚拟多通道理论与OPC技术的改进

5.1幅值概率分布函数

5.2虚拟多通道理论及其扩展

5.2.1虚拟多通道

5.2.2虚拟多通道理论的进一步扩展

5.3虚拟多通道OPC技术的硬件的实现

5.4实验结果与讨论

5.5本章小结

参考文献

6.Fraunhofer衍射连续谱的反演方法以及OPC技术

6.1 Fraunhofer 衍射理论以及谱图特征

6.2 Shi fri n反演理论及其修正

6.3 Fraunhofer连续谱图的传统获取方法

6.3.1 PSD和IC-CCD的谱图获取方法

6.3.2传统获取方法的缺陷分析

6.4 3C-CCD谱图获取方法及其RGB数值处理方法

6.4.1 3C-CCD连续分布谱图的获取方法

6.4.2 RGB三色均衡数值处理方法

6.5 PSD多工定位对其测量精度提高的作用

6.5.1衍射中心确定的意义

6.5.2 PSD定位理论及其定位实质

6.5.3 PSD实验测试方法

6.6本章小结

参考文献

7.结论与讨论

博士期间发表的论文

致谢