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第一章 前言
1.1 研究背景
1.2 光刻技术
1.2.1 光刻技术
1.2.2 光刻技术的研究进展
1.3 光刻胶
1.3.1 光刻胶的定义及其要求
1.3.2 化学增幅型光刻胶
1.4 制备光刻胶薄膜的成膜技术
1.4.1 旋转涂膜法
1.4.2 真空镀膜法
1.4.3 自组装薄膜技术
1.4.4 Langmuir-Blodgett(LB)膜技术
1.5 课题的提出
参考文献
第二章 可聚合阳离子型光致产酸剂及其聚合物的合成、表征及其产酸性能研究
2.1 研究背景
2.2 实验原理
2.3 实验内容
2.3.1 试剂与仪器
2.3.2 可聚合阳离子型PAG的合成及表征
2.3.3 化学增幅性光刻胶的合成
2.3.4 三氟甲磺酸标准工作曲线的制备
2.3.5 共聚物PAG的产酸性能
2.3.6 单体PAG的产酸性能
2.4 结果讨论
2.5 结论
参考文献
第三章 含PAG聚合物的LB膜的性质研究
3.1 研究背景
3.2 实验部分
3.2.1 光刻胶的合成
3.2.2 仪器与测量
3.2.3 基片的处理
3.2.4 π-A曲线及LB膜的制备
3.3 结果与讨论
3.3.1 三元共聚物P(HDMA/tBocPHOA/PAG1)的性质研究
3.3.2 三元共聚物P(HDMA/tBocPHOA/PAG2)的性质研究
3.3.3 三元共聚物P(HDMA/tBocPHOA/PAG3)的性质研究
3.3.4 三元共聚物P(HDMA/tBocPHOA/PAG4)的性质研究
结论
参考文献
总结论
致谢
附图
简历