声明
摘要
1 引言
1.1 光学薄膜概述
1.2 光学薄膜的分类
1.2.1 减反膜(增透膜)
1.2.2 高反膜
1.2.3 分束膜
1.2.4 滤光膜
1.3 光学薄膜的制备方法
1.3.1 物理气相沉积法
1.3.2 化学气相沉积法
1.3.3 溶胶-凝胶(Sol-Gel)法
1.4 光学玻璃基片
1.4.1 光学玻璃简介
1.4.2 镀膜基片的清洗
1.5 溶胶-凝胶法增透膜国内外研究现状
1.6 本课题的研究内容、目标及意义
2 实验部分
2.1 实验试剂
2.2 实验仪器/器材
2.3 实验内容
2.3.1 碱催化SiO2溶胶的制备
2.3.2 1/4波长SiO2薄膜的制备
2.3.3 SiO2薄膜的表面处理
2.4 性能表征
2.4.1 增透膜的折射率测试
2.4.2 增透膜的透过率测试
2.4.3 增透膜的SEM测试
2.4.4 膜层接触角的测试
2.4.5 增透膜的耐摩擦性测试
2.4.6 增透膜的稳定性测试
3 结果与讨论
3.1 1/4波长碱催化二氧化硅增透膜的光学和机械性能
3.1.1 1/4波长碱催化二氧化硅增透膜的折射率和透过率
3.1.2 1/4波长碱催化二氧化硅增透膜耐摩擦性
3.1.3 1/4波长碱催化二氧化硅增透膜的亲疏水性
3.2 经水氨蒸汽处理后膜层的光学和机械性能
3.2.1 水氮蒸汽处理后膜层的透过率曲线
3.2.2 经水氨蒸汽处理后膜层的耐摩擦性
3.2.3 经水氨蒸汽处理后膜层的亲疏水性
3.3 经HMDZ蒸汽处理后膜层的光学和机械性能
3.3.1 经HMDZ蒸汽处理后膜层的透过率曲线
3.3.2 经HMDZ蒸汽处理后膜层的耐摩擦性
3.3.3 经HMDZ蒸汽处理后膜层的亲疏水性
3.4 先水氨后HMDZ蒸汽处理后膜层的光学和机械性能
3.4.1 先水氨后HMDZ蒸汽处理后膜层的透过率曲线
3.4.2 先水氨后HMDZ蒸汽处理后膜层的耐摩擦性
3.4.3 先水氨后HMDZ蒸汽处理后膜层与水的接触角
3.5 先HMDZ后水氨蒸汽处理后膜层的光学和机械性能
3.5.1 先HMDZ后水氨蒸汽处理后膜层的透过率曲线
3.5.2 先HMDZ后水氨蒸汽处理后膜层的耐摩擦性
3.5.3 先HMDZ后水氨蒸汽处理后膜层与水的接触角
3.6 改性前后膜层结构的变化
3.7 改性前后膜层的耐环境稳定性
4 结论与展望
4.1 研究结论
4.2 研究展望
参考文献
致谢
个人简历及在学期间发表的学术论文与研究成果