微种植体支抗压低上前牙治疗露龈笑的实验及临床研究

摘要

第一章 不同部位微种植体支抗压低上前牙的Typodont实验研究 目的：在Typodont模型上，模拟临床应用微种植体支抗压低上前牙的过程，研究不同部位支抗对上前牙压低效果的影响，为临床治疗提供参考。 方法：制作上前牙槽骨垂直发育过度的标准Typodont模型，以该模型的硅橡胶阴模为模板，翻制42个Typodont实验模型，随机分为ABC三组，每组14个。A组在中切牙间植入微种植体，B组在两侧中切牙和侧切牙间植入微种植体，C组在侧切牙和尖牙间植入微种植体，均用100g力压低上前牙。应用三维坐标测量仪测量牙齿标记点的三维位置并获得标记点的点云数据，分析不同牙齿的压低量和前移量。借助Imageware 12软件测量牙齿的唇(颊)倾斜变化，并同时拟合牙弓曲线，研究牙弓、笑弧及牙合平面的变化。 结果：①以微种植体为支抗施予压低力后，上前牙有不同程度的压低(0.9220±0.3037mm～5.2354±0.9620mm)，中切牙的压低量＞侧切牙＞尖牙，微种植体的位置越靠前，压低效果越明显。②以微种植体为支抗压低上前牙，所有牙齿均向前移动，上前牙有不同程度的唇倾，微种植体的位置越靠后，牙齿向前移动越少，唇倾越少。③以微种植体为支抗压低上前牙，微种植体的位置越靠后，牙弓、笑弧及牙合平面的变化越小。 结论：①应用微种植体支抗可以真性地压低上前牙。②微种植体的位置越靠后，上前牙的压低量越小，唇倾越少，牙弓变化、笑弧变平及牙合平面角减少的趋势越小。反之亦然。 第二章 微种植体支抗压低上前牙治疗露龈笑的临床研究 目的：应用微种植体支抗治疗上前牙槽骨垂直发育过度的露龈笑患者，检测切牙的压低量及微笑时牙龈显露程度，同时监测龈沟深度、切牙唇倾、牙根吸收及牙合平面改变的情况。 方法：选取5名因上前牙槽骨垂直发育过度导致露龈笑的患者，在侧切牙和尖牙间植入微种植体支抗，用100g力压低上前牙。治疗前后印取牙牙合模型，测量上前牙的临床牙冠长度；拍摄头颅定位侧位片，应用头影测量分析软件进行测量分析；拍摄上前牙的根尖片，评价牙根吸收的情况；拍摄微笑时面下1/3照片，测量牙龈显露量；用牙周探针测量龈沟深度；对实验结果进行统计分析。 结果：平均压低时间为6.7±1.2月。①切牙压低量：上中切牙压低2.1～3.0mm，平均2.6±0.3mm(p＜0.05)。②牙龈显露量：牙龈显露减少1.8～3.1mm，平均2.3±0.5mm。三名患者微笑时露龈笑明显改善，二名患者露龈笑消失。③龈沟深度：压低结束时，中切牙和侧切牙的龈沟深度在正中颊点分别加深0.5+0.2mm和0.6±0.3mm，在正中舌点分别加深0.6+0.3mm和0.6±0.4m(p＜0.05)。④临床牙冠长度：压低上前牙后，中切牙临床牙冠变短0.7±0.3mm(p＜0.05)，侧切牙变短0.5±0.3mm(p＜0.05)，尖牙变短0.5±0.2mm(p＜0.05)。⑤头影测量分析：上前牙压低后，牙合平面角减少2.9±1.4°(p＜0.05)；鼻唇角增加5.4±2.9° (p＜0.05)；上中切牙阻力中心点压低2.6±0.3mm(p＜0.05)，后移2.3±1.3mm；切缘与腭平面的距离减少3.1±0.7mm(p＜0.05)，与上唇缘的距离减少2.7±1.1mm(p＜0.05)；覆牙合减少2.8±0.6mm(p＜0.05)。⑥5名患者的上前牙未见明显牙根吸收。 结论：应用微种植体支抗可以有效地压低上前牙，改善露龈笑，但牙龈的改建速度比上前牙的压低速度慢。

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文摘

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引言

文献回顾

第一章不同部位微种植体支抗压低上前牙的Typodont实验研究

材料与方法

第二章结果

第二章微种植体支抗压低上前牙治疗露龈笑的临床研究

材料与方法

结果

讨论

结论

参考文献

微种植体支抗微创术知情同意书

附图

致谢