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引言
第一章文献综述
1.1交换偏置(exchange bias)的研究进展
1.1.1交换偏置的机制
1.2影响交换偏置的因素
1.2.1铁磁层的厚度
1.2.2反铁磁层厚度
1.2.3反铁磁层结构取向对交换偏置场的影响
1.2.4界面的粗糙度
1.2.5晶粒尺寸
1.2.6交换偏置的温度效应
1.3交换偏置中常用的反铁磁材料
1.3.1面心立方(fcc)的无序金属合金
1.3.2体心四方(bct)的无序金属合金
1.3.3面心四方(fct)有序金属合金
1.3.4反铁磁氧化物
参考文献:
第二章样品的制备和分析测试原理
2.1薄膜样品的制备
2.1.1磁控溅射原理
2.1.2薄膜样品的制备
2.1.3基片的洗涤方法
2.1.4本实验所采用的实验设备
2.2薄膜的分析测试原理
2.2.1磁性能测量
2.2.2薄膜厚度的测量
2.2.3X射线衍射分析
参考文献
第三章,界面插入Cr层对PtMn/NiFe交换偏置的影响
3.1引言
3.2实验方法
3.3实验结果和讨论
3.3.1退火温度对PtMn/NiFe交换偏置的影响
3.3.2铁磁/反铁磁双层膜中交换偏置场与反铁磁层厚度的关系
3.3.3对在反铁磁层PtMn的厚度为临界厚度时,界面Cr插入层厚度对交换偏置的 影响
3.3.4XRD的分析
3.3.5交换偏置场和临界厚度的关系
3.3.6插入层位置对交换偏置场的影响
3.4.结论
参考文献:
致谢