Research Institute of Micro/Nano Science Technology, Shanghai Jiao Tong University, 1954 Huashan Road, Shanghai, China 200030;
cobalt silicide; nickel silicide; ab initio;
机译:萤石结构薄的NiSi_2,CoSi_2和FeSi_2的结构和电子性质在Si中发生界面和沉淀
机译:CoSi_2和NiSi_2电子性质的实验和理论研究
机译:AB初始研究压力效应下抗萤石Li_2x(X = S和TE)化合物的结构,电子和弹性性质
机译:AB Initio Cosi_2和NISI_2在萤石结构中的电子性质研究
机译:多壁碳纳米管-环氧树脂复合材料的微波吸收研究以及磷化硼(bp)的电子,输运和结构性质的从头算
机译:从头开始研究硼和氮掺杂的五石墨烯的电子和磁性
机译:层状钙钛矿的电子结构和光学性质 sr_2mO_4(m = Ti,V,Cr和mn):从头算研究