NTT Basic Research Laboratories, 3-1 Morinosato-Wakamiya, Atsugi-Shi, Kanagawa 243-0198, Japan;
机译:快速生长的KH_2PO_4晶体表面宏观台阶的横向不稳定性的异位显微镜观察
机译:超薄铅薄膜形态不稳定性的原位透射电镜观察
机译:阶跃曲折和聚束不稳定性引起的GaN同质外延表面的粗糙化及其对氢化物气相外延的抑制
机译:在外延和侵蚀过程中逐步观察静步和侵蚀中不稳定的观察
机译:步流外延的离散连续模型的建模,分析和仿真:束缚不稳定性和连续极限。
机译:热塑性塑料的机电不稳定性:理论和原位观察
机译:重新审视阶梯流外延期间的蜿蜒不稳定