NALUX CO., LTD. Yamazaki 2-1-7, Shimamoto-cho, Mishima-gun, Osaka, 618-0001, JAPAN;
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sub-wavelength grating; polarization hologram; electron-beam exposure; vacuum evaporation; two-layer structure;
机译:视紫红质膜的低光记录反射型偏振全息图
机译:流量依赖性浓度极化和内皮糖萼层:动脉传质的多尺度方面及其对动脉粥样硬化的影响
机译:聚电解质电泳的模拟:长宽比,双层极化,有效电荷和电渗流的影响
机译:具有低纵横比的偏振全息图
机译:利用油膜干涉法在低雷诺数可变长宽比管道中的临界长宽比和流动发展
机译:HOLO-UNET:全息图 - 全息图神经网络恢复用于高保真低光定量相成像的活细胞
机译:矢量全息图与电介质元表面:终极极化模式
机译:纵横比对带有襟翼和可伸缩副翼的非锥形低纵横比机翼的低速侧向控制特性的影响