Precision Engineering Division, National Institute of Stards Technology, Gaithersburg, MD 20899;
optical critical dimension (OCD) metrology; through-focus focus metric; through-focus image map; angular optical illumination; Koehler factor; overlay; process control; defect analysis;
机译:通过焦点的扫描光学显微镜成像方法进行纳米尺度分析
机译:通过焦点的扫描光学显微镜成像方法进行纳米尺度分析
机译:使用通过聚焦扫描光学显微镜的光学显微镜照明分析
机译:使用通过聚焦聚焦度量方法的光学照明和关键尺寸分析
机译:使用等电聚焦,反相HPLC,MALDI TOF / MS和ESI TOF / MS进行蛋白质组分析的新型多维分离方法的开发。
机译:使用全焦点扫描光学显微镜的光学显微镜照明分析
机译:扩展深度焦点隐形眼镜与两种商业多焦点:第1部分。通过计算的通过聚焦视网膜图像质量指标进行光学性能评估