glow discharges; plasma CVD; plasma CVD coatings; plasma sources; silicon compounds; 1 atm; SiOlt; subgt; xlt; /subgt; atmospheric pressure reactor; glow discharge plasma; impedance-matching system; plasma chemical vapor deposition; polymer substrates; position-controllable c;
机译:一种用于表面处理的大气压均匀辉光放电等离子体(OAUGDP(TM))反应器的物理和现象学
机译:具有一个大气压均匀辉光放电等离子体(OAUGDP)的室温表面的灭菌和等离子体处理
机译:大气均匀辉光放电等离子体(OAUGDP)-21世纪的平台技术
机译:大气均匀辉光放电等离子体(OAUGDP®)在等离子体化学气相沉积(PCVD)中的应用进展报告
机译:将脉冲调制等离子体应用于等离子体增强了介电材料的化学气相沉积。
机译:固体碳源化学气相沉积系统中辉光放电法合成的高质量石墨烯薄膜
机译:单大气均匀辉光放电等离子体的前瞻性工业应用
机译:单大气均匀辉光放电等离子体的蠕变和蠕动电流动力学效应引起的流动加速度和电磁吸收现象研究