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絶縁性窒化アルミニウムセラミックスの微細放電加工特性-加工雰囲気が放電加工特性に及ぼす影響

机译:绝缘氮化铝陶瓷陶瓷陶瓷效果的精细放电加工特性 - 加工大气的放电加工特性

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摘要

半導体素子の高集積度化が進むとともに,基板の放熱性が重視されてきている.窒化アルミニウム(以下AlN)は優れた熱伝導性と高い電気絶縁性をもつため,近年半導体素子用基板として,その焼結体が脚光をあびている.また,高温強度が高く,化学的耐久性も優れている.これまでのAlNに関する放電加工は,粒界に電気伝導性物質を析出させ,導電度を付与した材料を製作して対応していた.これに対し,絶縁性AlNの放電加工は,著者らが開発した補助電極法により可能であるしかしながら,加工速度は熱伝導性の良好なSiC,Al_2O_3と同程度と,かなり遅いことが報告されている.加工速度の向上を目指した,最近の著者らの絶縁性AlNの微細放電加工においては,補助電極法により加工表面に形成された導電性被膜から加工を行った場合,脱イオン水中でも加工が進展することが判明した.脱イオン水中における絶縁性セラミックスの放電加工は過去に例がないため,適正加工条件の設定は困難である.本研究では,RC放電回路により絶縁性AlNセラミックスの微細放電加工を行い,加工雰囲気が放電加工特性に及ぼす影響について明らかにした.
机译:半导体器件的较高累积是前进的,并且强调基板的散热。由于氮化铝(下文中,ALN)具有优异的导热性和高电绝缘,因此烧结体具有作为半导体元件的基板的基础光。此外,高温强度高,化学耐久性优异。到目前为止AlN的放电加工在谷物边界处沉淀到导电物质,并与施加导电性的材料相容。另一方面,通过作者开发的辅助电极方法可以进行绝缘ALN的放电加工,但是报告的处理速度是非常慢的,以及具有良好导热性的SiC,AL_2O_3。有。在最近作者的绝缘ALN的精细放电加工中,旨在提高处理速度,当通过辅助电极方法从处理表面上形成的导电膜进行处理时,处理正在进行去离子水。发现是。由于过去未示出去离子水中绝缘陶瓷的放电加工,因此难以设定适当的加工条件。在该研究中,RC放电电路执行绝缘ALN陶瓷的精细放电加工,并揭示了加工气氛对放电加工特性的影响。

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