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次世代非球面レンズ製作のための傾斜角積分型高速ナノ精度形状計測装置の開発―測定原理と測定方法

机译:用于下一代非球面透镜制造 - 测量原理和测量方法的倾斜角整体高速纳莫数测量装置的研制

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摘要

回転対称で非球面形状を従来の干渉計や三次元測定機のように基準面、タッチプローブを用いず、光の直進性を生かし被測定面の任意の点における法線ベクトルを0.1μrad以上の精度で測定し、補間、積分することによりサブナノメートルの精度で三次元形状を創出することを研究目的とする。本研究は、次世代半導体製造技術として、波長13.5nmの極紫外光 (Extreme Ultra-Violet; EUV) を用いたEUVリソグラフィー (EUVL) 技術の中で、結像光学系に対して回折限界に迫る分解能を達成する。つまり、次世代超高精度光学系として形状精度0.08nm-RMSの要請を達成可能にする。また、小型非球面レンズ(例えばNA=1、曲率半径5mm/非球面量数·m程度)形状をサブナノメータでなおかつ短時間(約3分)で計測するシステムを開発することである。コンパクトカメラに使用される曲率半径の小さい非球面レンズの形状計測精度に関して日本国内外を調査した結果、直径150mm以下の非球面レンズでは形状測定精度が50nm程度であることがわかった。測定法として、接触式CMMや干渉法を採用しているが不確定要素をどうしても取りきれていないのが現状である。これらの装置は恒温室に設置され、測定を行なうには作業者が測定準備に時間がかかり、測定にも長い時間を必要とする場合が多く、簡単に敏速に現場にフィードバックすることが困難である。調査結果の例を掲げると、アメリカQED社のサブアパーチャー·スティッチング干渉測定機は、市販のフィゾー型干渉計と測定台が6軸駆動するメカ構成(SSI-Aの場合)とデータ解析ソフトウエアにより、外形200mm、NA=1.0まで測定可能であるが、測定精度は数十分のλ(λ=0.633μm)である。PTB(ドイツ国立計測標準機関)、TRIOPTICS、University Autonoma Barcelonaなど産学共同にて実施されたプロジェクトにより開発された"AspheroMaster"はスロープ測定精度が50μradである。そこでEUVLや小型非球面レンズから要請される高精度ミラー、すなわち最大サイズΦ300mmから最小サイズΦ10mm、非球面量15μm以上に対して、形状誤差を0. 08nm-RMSの精度を現場でなおかつ高速形状計測可能なシステムを構築することは意義がある。
机译:通过利用诸如参考表面,触摸探针的光直线度,例如传统的干涉仪或三维测量机,在表面的表面上的任何点,常规向量是0.1μr或更多的点。 ,是旋转对称的,并且待测任意点处的正常向量为0.1μrad。它旨在通过测量,插值和集成来创建三维形状,以亚腔轮计的准确性创造三维形状。该研究采用EUV光刻(EUV1)使用极端紫外线(EUV1)在EUV光刻(EUVL)技术中的衍射极限; EUV波长为13.5nm作为下一代半导体制造技术。实现分辨率。换句话说,实现了0.08nm-rms的请求作为下一代超高精度光学系统。此外,它是开发一种用于在亚腔轮机和亚风仪处和短时间测量用于测量小型非球面透镜(例如,Na = 1,约5mm /非球形量和M)的系统(约3分钟)。由于研究了用于紧凑型摄像头的曲率半径的形状测量精度的日本和海外,发现形状测量精度约为50nm,导致日本和海外关于测量非球形镜片的精度。作为测量方法,目前无法采用触点CMM或干涉测量,但不是一定的方式。这些器件安装在恒温室中,测量难以准备测量,需要长时间进行测量,并且难以快速地送回场景。在调查结果示例的情况下,美国QED子孔径缝合干扰测量机是一种机械配置(用于SSI-A)和具有市售的FISO型干涉仪和测量表的数据分析软件。但是,测量精度可以通过200mm和Na = 1.0的外形来测量,但测量精度是λ(λ=0.633μm)。 “Aspheromaster”由PTB(德国国家测量标准代理),Tiolextics,T​​hisiolya Barcelona等工业学术协作,如PTB(德国国家测量标准代理),Tileoptics,T​​imonoma Barcelona是50微的斜率测量精度。因此,从EUV1和小型非球面镜头请求的高精度镜,即最小尺寸φ300mm,最小尺寸φ10mm,并且非球面体积为15μm或更大,并且测量了0.08nm-rms的精度领域的领域。构建可能的系统很重要。

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