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INTERDIFFUSION OF FE AND MG LAYERS DURING ANNEALING AND DEUTERIUM ABSORPTION

机译:在退火和氘的吸收期间的Fe和Mg层的相互跨越

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摘要

We compared the interdiffusion of a Ta/Mg/Fe/Ta/Pd thin film system after deuterium absorption and desorption at 250°C with an annealing of the film structure to 250°C. The combined x-ray and neutron reflectometry study shows that the layers start to interdiffuse at 250°C with the film structure still clearly visible. In contrast, after deuterium absorption and desorption the changes of the film structure are more severe. We observe an intermixing of the Mg/Fe/Ta/Pd layers with only the bottom Ta layer staying intact.
机译:将TA / Mg / Fe / TA / PD薄膜系统与250℃的退火进行氘的吸收和解吸后进行比较Ta / Mg / Fe / Ta / Pd薄膜系统的相互扩散,并将膜结构退火至250℃。组合的X射线和中子反射测量研究表明,层在250℃下开始与薄膜结构仍然清晰可见的。相比之下,在氘吸收和解吸后,膜结构的变化更严重。我们仅观察Mg / Fe / TA / PD层的混合,只有底部TA层保持完整。

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