TiW alloy films; magnetron sputtering; TCR; technique parameters;
机译:直流磁控溅射沉积沉积的备用合金薄膜中微结构和磁性的比较和高功率脉冲磁控溅射
机译:磁控溅射CoPtCr / Cr磁性薄膜中柱状微观结构的发展
机译:通过磁控溅射沉积的β-(ME-1,ME-2)和Menx薄膜:新型异质结构合金和复合膜
机译:磁控溅射沉积TiW合金薄膜的TCR研究
机译:通过反应磁控溅射沉积的亚稳态钛(0.5)铝(0.5)铝合金薄膜的物理性能。
机译:磁控共溅射制备可降解冠状动脉支架的二元非晶态Zn-Zr合金薄膜的初步研究
机译:通过高功率脉冲磁控溅射和直流磁控溅射在含氢等离子体中沉积的β-Ta和α-Cr薄膜