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【24h】

次世代パワー半導体を用いたパルスパワー電源用コンデンサ充電電源

机译:使用下一代功率半导体的脉冲电源的电容器充电电源

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摘要

マグネトロンスパッタリングを大電力パルスで行う技術として,大電力パルススパッタリング(High Power PulsedSputtering: HPPS)が国内外で研究されている。HPPS 用の高電圧パルス電源は,容量性エネルギー蓄積素子を用いたパルスパワー電源であり,波高値が1 kV,パルス幅が数10~100μs,繰り返し周波数が数100 Hz のパルスを発生させる。このとき,商用電源AC100 V を昇圧および整流し,エネルギー蓄積コンデンサを1 kV に充電する高速な直流高電圧電源が必要である。本研究では,この直流高電圧電源を次世代型高速半導体スイッチおよびパルストランスで構成し,高速充電かつ小型化を達成することを目的とした。
机译:高功率脉冲磁控溅射技术 As,高功率脉冲 溅射:HPPS)正在国内外研究。 HPPS高 电压脉冲电源使用电容性储能元件。 它是一种松散的电源,峰值为1 kV,脉冲宽度为几十到100。 产生具有数百Hz重复频率的μs脉冲。这 此时,商用电源AC100 V进行升压和整流以产生能量。 -高速直流高压电源,可将存储电容器充电至1 kV 是必须的。在这项研究中,这种直流高压电源将用于下一代。 高速半导体开关和脉冲变压器 目的是实现快速充电和小型化。

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