サファイア隔膜真空計の開発

摘要

産業界においては真空を用いた加工処理がさまざまな分野で使用されている。なかでもマイクロプロセッサやメモリなどの電子デバイスの製造過程では、真空プロセスが多様されており、そのひとつに薄膜形成がある。薄膜形成工程中の電子デバイス製造装置内圧力は、真空領域に引かれており、その真空度が薄膜の品質に影響するため、精密な圧力制御が要求される。その電子デバイス製造装置内圧力の計測に使用されるのが隔膜真空計である。