机译:V_(ds)= 0.4 V时的速度增强和随机τ_(pd)可变性降低以及薄埋氧化层电路上硅的τ_(pd)可变性分析
机译:减小散装和薄埋硅氧化物(SOTB)MOSFET在高温下漏极引起的势垒降低和亚阈值斜率的变化
机译:具有很小随机掺杂波动的薄盒硅(SOTB)CMOS中的局部可变性和可伸缩性
机译:通过平衡P / N驱动性控制抑制薄掩埋氧化物(SOTB)CMOS电路上硅的模芯延迟变异性,具有超强电压(0.4 V)操作的反向偏置
机译:UltraLow-Power LSI技术用硅薄层覆盖氧化物(SOTB)CMOSFET