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A Patternable, Anti-Reflective Light Blocking Layer using a Nano-Particle Suspension in Photoresist

机译:使用在光致抗蚀剂中的纳米颗粒悬浮液的可图案化的抗反射遮光层

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摘要

This paper presents a method for fabricating a broadband anti-reflective light blocking layer patternable on a micron scale using standard photolithography using a combination of photoresist and Al2O3 nanoparticles over an aluminum layer.
机译:本文介绍了一种使用光致抗蚀剂和Al的组合使用标准光刻在微米级上制造宽带抗反射遮光层的方法。 2 O. 3 纳米粒子在铝层上。

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