机译:壁的接近度对方圆柱后面的尾流特性的影响:PIV测量和POD分析
机译:2C-PIV和3C-PIV在高雷诺数下圆柱近尾流中的湍流特性的相位平均测量
机译:2C-PIV和3C-PIV在高雷诺数下圆柱近尾流中湍流特性的相位平均测量
机译:受涡诱导振动的圆形圆柱尾流尾迹的POD分析
机译:圆柱的近苏控制:表面扰动的影响
机译:在邻近-尾波干扰区域内两个圆柱体串联产生的涡激振动
机译:对于不同的气缸间距s和迎角φ,对垂直浸入湍流边界层的直径为d的两个圆柱上的压力分布进行测量。作用在气缸上的阻力和提升力的特性分为三个区域:1)0°<__ 〜φ <__ 〜30°,2)30°<__ 〜φ <__ 〜120°和3) 120°<__ 〜φ <__ 〜180°除以两条零升力线。而且,发现除了上游气缸的尾流区域的影响之外,对于s / d> __〜4,两个气缸之间的干扰几乎可以忽略。
机译:美国宇航局地面试验设施中立体声pIV和plenoptic-pIV测量的比较。