Raman spectroscopy; anisotropic deposition; carbon film; deposition profile; plasma CVD;
机译:通过径向密度的时间控制和基板温度的实时监测在有机膜的等离子刻蚀上的特征轮廓
机译:(001)GaAs衬底上通过射频溅射生长的ZnO薄膜中衬底温度和工作气体比率的依赖性
机译:柔性聚酰亚胺衬底上生长的ZnO薄膜中光学性质对衬底温度的依赖性
机译:亚微米沟槽基板上碳膜特征轮廓的基板温度依赖性
机译:光学测量硅基板上的二氧化硅膜和磁盘上的碳涂层的表面轮廓。
机译:LNO / Si衬底上沉积的Pb Yb1 / 2Nb1 / 2 O3-PbTiO3薄膜定向生长的温度依赖性
机译:几何参数对微观沟槽铜溅射沉积薄膜回流过程变化的影响。
机译:激光烧蚀YBa2Cu3O(7-δ)薄膜临界温度对LaalO3衬底生长技术的依赖性