EUV lithography; mask; absorber; multilayer; flatness; image placement; light-shield;
机译:带有遮光边框的薄吸收剂极紫外光刻掩模,适用于全视场扫描仪:掩模工艺会改变平整度和图像放置
机译:带有遮光边框的薄吸收剂极紫外光刻掩模,适用于全视场扫描仪:掩模工艺会改变平整度和图像放置
机译:遮光边框对极紫外光掩模的可印刷性产生影响
机译:具有用于全场扫描仪的浅屏蔽边界的薄吸收器EUVL面罩
机译:校正策略以补偿在EUVL掩模卡盘过程中引起的图像放置错误。
机译:速度不是一切:复杂的处理速度测量掩码各个差异和执行控制的发育变化
机译:EUV浮雕成像工具euvl嵌入式相移掩模性能的空中图像评估