机译:通过贴花转移光刻和反应性离子束蚀刻在电子材料上的聚二甲基硅氧烷抗蚀剂的微米和亚微米图案化:在高迁移率薄膜晶体管的制造中的应用
机译:面向32 nm节点ArF浸没光刻的双图案化材料和工艺的开发
机译:新型杯[4]芳烃衍生物作为无掩模且无需显影的激光热光刻材料,用于制造微/纳米图案
机译:用立体光刻作为绿色工艺微图案化介电材料
机译:通过改进的粘合剂喷射印刷工艺和通过软光刻在纳米球图案中进行螺距控制的中小型高温高温反应器
机译:通过介电特性测量对材料进行高温微波处理的原位监测
机译:硼和高k电介质:用于多图案光刻工艺的第四种蚀刻停止色