首页> 外文会议> >Directions in future high end processors
【24h】

Directions in future high end processors

机译:未来高端处理器的发展方向

获取原文

摘要

Results based on a new cycle-time model are presented to demonstrate performance trends for complex bipolar ECL-CSEF and CMOS processors. It is shown that performance constraints are quite different for these two systems. For a given design the performance of a CMOS processor is tied to lithography, whereas future CSEF bipolar processors will be gated primarily by the power density capability of the package. Liquid nitrogen temperature (LN/sub 2/) CMOS is seen as having the potential to become the highest performance technology for mainframe uniprocessors.
机译:提出了基于新的周期时间模型的结果,以展示复杂双极ECL-CSEF和CMOS处理器的性能趋势。结果表明,对于这两个系统,性能约束非常不同。对于给定的设计,CMOS处理器的性能与光刻相关联,而未来的CSEF双极处理器将主要由包装的功率密度能力进行门控。液氮温度(LN / SUB 2 /)CMOS被视为具有成为主机单处理器的最高性能技术的可能性。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号