Korea Electrotechnology Research Institute, Changwon, 641-600 Republic of Korea;
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Korea Electrotechnology Research Institute, Changwon, 641-600 Republic of Korea;
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机译:管中和管式Nb_3Sn股线的临界电流密度和微观结构-现状和改进前景
机译:压痕对内部锡Nb_3Sn链临界电流应变敏感性的影响
机译:Nb_3Sn超导导线的组织,组成和临界电流密度
机译:Ge加法对内部锡加工Nb_3sn股线的微观结构和临界电流密度的影响
机译:银包覆Bi2Sr2CaCu2Ox复丝圆线的加工工艺,微观结构和临界电流密度。
机译:通过DUV辅助溶液沉积工艺制备的YBa2Cu3O7-x超导膜的高临界电流密度
机译:通过青铜,内部sn和pIT技术制造的高临界电流Nb3sn股线的微观结构和微化学
机译:热处理温度升温速率对内部锡加工线材磁滞损耗和临界电流密度的影响