FOM Institute for Plasma Physics Rijnhuizen, Edisonbaan 14, 3439 MN, Nieuwegein, The Netherlands;
FOM Institute for Plasma Physics Rijnhuizen, Edisonbaan 14, 3439 MN, Nieuwegein, The Netherlands;
FOM Institute for Plasma Physics Rijnhuizen, Edisonbaan 14,;
EUVL; multilayers; interfaces; amorphous Mo; polycrystalline Mo; Si_3N_4;
机译:Mo结晶度对EUV多层系统中通过Si-on-Mo界面扩散的影响
机译:d-金属和B的化学介导扩散通过Si以及Si-on-Mo界面上的团聚
机译:界面优化的Mo / Si多层作为EUV光谱范围的反射器
机译:Mo结晶度对通过EUV多层系统的Si-On-Mo界面扩散的影响
机译:用于光刻的DUV和EUV光掩模中非平面相和多层缺陷的快速仿真方法。
机译:硬/软多层中由于扩散诱导的界面层导致的矫顽力降低
机译:分子束外延生长结晶Fe / Ge多层膜的界面研究
机译:界面控制结晶Ni / Ti多层膜的非晶化