Gas Laser Laboratory, Institute of High Current Electronics SB RAS, 4, Akademichesky ave., Tomsk, 634055, Russia;
excimer laser; active medium; wave-front distortion; divergence; inhomogeneity of a madium;
机译:活性介质的不均匀性对长脉冲放电XeCl激光辐射散度的影响
机译:短脉冲放电XeCl激光器中活性介质形成的特殊性
机译:激发参数和活性介质对放电准分子ArF激光器效率的影响
机译:长脉冲放电XECL放大器的无活性介质的不均匀性对辐射发散的影响
机译:放电加工过程中的恢复时间的调查以及恢复时间对放电时间之间的影响的后果。
机译:SF6介质中介质阻挡放电对聚酰亚胺的电和界面性质的影响
机译:长脉冲XeCl准分子激光的光束发散研究