Faculdade de Tecnologia, UNICAMP, R. Paschoal Marmo l888, Limeira, SP, 13484-332, Brazil;
Lab. de Vidros Especiais - LaViE, Dept. de Quimica, UFSCar, Rod. Washington Luiz, Km 235,Sao Carlos, SP, 13565-905, Brazil;
Lab. de Optica, Inst. de Fisica Gleb Wataghin, UNICAMP, R.Sergio Buarque de Holanda 777, Campinas, SP, 13083-859, Brazil;
photosensitive materials; diffraction; holographic exposures;
机译:全息光谱:通过全息技术对光敏材料进行波长依赖性分析
机译:测量光敏材料中实时相位和幅度光栅的全息技术的进展
机译:全息技术测量光敏材料的动力学常数和光调制
机译:用于研究光敏材料的自衍射全息技术
机译:使用先进的衍射技术研究铁电材料的多尺度本构行为。
机译:全息光谱:通过全息技术对光敏材料进行波长依赖性分析
机译:全息光谱:利用全息技术对光敏材料进行波长相关分析
机译:全息记录光敏材料综述。